你好!欢迎来到深圳市品慧电子有限公司!
语言
当前位置:首页 >> 电容器 >> 贴片电容 >> 【科普小贴士】MOSFET性能改进:RDS(ON)的决定因素

【科普小贴士】MOSFET性能改进:RDS(ON)的决定因素


(1)MOSFET器件结构将根据要求的耐受电压来选择。确定导通电阻RDS(ON)的因素如图3-7和方程式3-(1)所示。根据器件的结构,决定导通电阻的因素比例将发生变化。
(2)例如,许多中高压MOSFET(250V及以上)具有平面MOS(π-MOS)结构,而小于200V的产品大多具有沟槽MOS(U-MOS)结构。因此,当耐受电压VDSS=600V时,Rdrift成为主导因素,当耐受电压是30V时,因素Rch的比例较高。

D-MOS的导通电阻决定因素

图3-7(a)D-MOS的导通电阻决定因素

沟槽MOS的导通电阻决定因素

图3-7(b)沟槽MOS的导通电阻决定因素

RDS(ON)=Rsub+Rdrift+RJ-FET+Rch+RN+

RDS(ON)=Rsub+RdriftRch+RN+方程式3-(1)

如果是VDSS=600V,顺序为Rdrift?>> Rch> RJ-FET,RN+,Rsub和RDS(ON)取决于Rdrift
如果是VDSS=30V,顺序为Rch?>> Rdrift> RN+,Rsub。沟槽MOS结构的精细图形化可以最大限度降低RDS(ON)对Rch的依赖性

文章来源:东芝半导体

用户评论

发评论送积分,参与就有奖励!

发表评论

评论内容:发表评论不能请不要超过250字;发表评论请自觉遵守互联网相关政策法规。

深圳市品慧电子有限公司