半导体元件微型化的下一场革命──NEMS
机遇与挑战：
- NMES在未来可能成為半导体產业界的要角
- 成熟的MEMS技术在新潮电子產品中的应用开拓了庞大新市场
- Darpa也在研究NEMS元件的军事应用
据新兴晶片技术领域的专家表示，可说是微机电系统(MEMS)的“小表弟”的奈米机电系统(nanoelectromechanical systems，简称NMES)，虽然目前还没没无闻，但在未来可能成為半导体產业界的要角。
Sematech製造联盟新兴技术副总裁Raj Jammy指出，其中的一个理由是，成熟的MEMS技术已经為各种不同的感测器，在iPhone等新潮电子產品中的应用开拓了庞大新市场，不过MEMS是针对特殊应用的元件：「NEMS则能提供整套的潜在应用方案。」
NEMS被形容為MEMS与奈米技术的结晶；在美国国防部高等研究计划署(Drapa)掌管 NEMS研究的Dennis Polla表示：「如果某系统有一个关键机械零件或架构的尺寸小於1微米(micrometer)，并且能整合其他不同的零件，那就是NENS。」他指出，该单位认為NEMS技术就是「下一场微型化革命」。
Darpa正在研究将NEMS技术与感测器、致动器(actuators)、电子元件与光学元件、甚至微流体元件整合的方法。而Sematech的Jammy则表示，从製造部门的角度来看：「没有人是真正在研究NEMS领域，也就是我们该如何将NEMS整合进CMOS製程？」
在日前(12月7~9日)於美国举行的2009年国际电子元件会议(IEDM)上，至少有9个研究单位发表了有关NEMS技术的论文，题目包括NEMS CMOS记忆体等应用；事实上，IEEE自2006年起就赞助NEMS技术会议，其第五届年会预计明年1月20~23日在中国厦门举行。
Jammy的观点是，现在时机已经成熟，可开始研究进行採用现有CMOS製程技术生產新式NEMS元件的方法：「要真正掌握该种元件的潜能，得用CMOS製程而非一般MEMS製程来生產，好让NEMS元件是与CMOS相容的。」
NEMS元件与其他许多新兴IC技术一样诉求低功耗特性，不过NEMS元件还有其他优势，包括高速度(gigahertz)、低漏电、与现有CMOS製造设备相容，以及可进军传统晶片无法运作之严苛环境，开创一系列特殊应用。
这意味著NEMS的角色将不只是做為iPhone内的触控感测器；Jammy举例说明，相关的严苛环境应用包括汽车、工业领域的储存设备，或是RF与生物医疗应用等等。Darpa也在研究NEMS元件的军事应用。
在元件层级，Sematech正与加州柏克莱大学、史丹佛大学等单位的研究人员合作，开发採用NEMS技术的记忆体元件，以及号称「零洩漏」的NEMS开关(switch)，或是与CMOS技术整合的混合式开关元件。
在IEDM上所发表的NEMS研究，则包括整合NEMS与CMOS技术所製造、称為「鰭式正反器致动通道电晶体(fin flip-flop actuated channel transistor)的元件，以及採用奈米级石墨烯(graphene)材料所製造的低耗电NEMS开关元件。
关键字：半导体 微型化 革命 NEMS 本文链接：http://www.cntronics.com/public/art/artinfo/id/80004550
