中芯国际推出0.11μm图像传感器制造技术

公司事件：

• 中芯国际开发出了生产0.11μm CMOS图像传感器的工艺技术

事件影响：

• 利用此次开发的工艺技术中芯国际中芯国际可以生产更高性能的CMOS传感器

中国的中芯国际（SMIC）开发出了生产0.11μm CMOS图像传感器的工艺技术。其0.11μm工艺技术的布线层所用金属材料既可使用铝（Al）也可使用铜（Cu）。该公司已开始了0.11μm工艺技术的试生产，可采用200mm或300mm晶圆生产。

SMIC表示：“利用此次开发的工艺技术可以生产比此前分辨率更高、噪音更低和高对比度的CMOS传感器”