韩媒：SK Siltron成功开发EUV DRAM晶圆，将供应给三星、SK海力士

目前应用最广泛的硅晶圆，主要可分为抛光(polished)和磊晶(epitaxial)晶圆两种。抛光晶圆是以高纯度多晶硅加工制成，用于DRAM、NAND Flash等，磊晶晶圆则是将厚度几微米(μm)的硅单晶层，蒸镀到抛光晶片上，主要用于系统半导体。据悉SK Siltron此次开发并量产的晶圆，主要是用于最新10nm级DRAM。

三星、SK海力士已在第四代(1a)DRAM导入极紫外光(EUV)制程。EUV是新一代曝光技术，采用荷兰ASML独家生产的设备。由于EUV与现有的光波长，具有不同特性，因此须采用不同材料，而开发1a DRAM晶圆的难度同样很高。

据了解，SK Siltron加入供应之前，只有日本胜高和信越化学能够供应，2021年下半量产1a DRAM的三星、SK 海力士，先前仅使用日本生产的晶圆。

相关人士表示，1a DRAM占比不断提高的情况下，SK Siltron研发成功与量产，无疑帮助韩国实现材料供应链多元化，从韩国国产化大业角度而言别具意义。SK海力士传计划2022年底前1a DRAM占比将提升至产量的4分之1左右。

另一方面，2021年SK Siltron的12英寸晶圆市占率约18%左右，排名业界第三，而胜高市占30%、信越化学市占25%，最近2~3年间SK Siltron正在大幅缩小落后差距。