被美国给打醒！俄罗斯想造光刻机，全新的技术，对标了ASML的EUV

被美国给打醒！俄罗斯想造光刻机，全新的技术，对标了ASML的EUV

谁都知道，俄罗斯已经被美国全面打压了。

俄罗斯的晶片需求量并不大，每年的进口量，也就是一亿美元左右，大部分的晶圆厂，都不会和美国竞争。

但俄罗斯的一亿美金，在俄罗斯来说，就是一个天文数字。

俄罗斯将会做什么？前段时间，有消息说俄罗斯准备重新做一台光刻机。

他的目标很明确，就是要用ASML的最新光刻机，去挑战目前最尖端的EUV（UV）。

当然，ASML也不可能战胜ASML，因为ASML的EUV光刻机，都是全世界的人帮忙做的，俄罗斯这边，根本就没有人去做。

俄罗斯的计划，就是研发一种新的技术，叫做“X射线光刻机”。

EUV光刻机，原本是将芯片的图纸，做成掩模，然后用13.9nm的紫外线，对掩模进行照射，然后在芯片上刻下电路，EUV光刻机就是这么做的。

而“无掩膜X光刻蚀机”则是另一种方式，它无需做任何掩模，只需用0.01nm至10nm的X射线，就能将芯片的电路直接绘制出来。

技术可靠吗？这可不是一件容易的事情，技术已经有了，但效率很低，在很久以前，还没有在芯片上使用过。

毕竟要在一块硅片上雕刻电路，光是想想都让人头疼，技术上的落后还好说，但光是5nm，就是几十亿的晶体管，就很难了。到现在为止，还没有任何一家公司，将自己的技术，投入到光刻的研究中。

俄罗斯的目标是，十一月研发出一套新的技术与模式，并对样机的技术规格与可行性进行分析，其中的制程要求是28nm或更高。

俄罗斯第一批投入了六亿七千万卢布，由俄罗斯的莫斯科电子技术研究所（MIET）接手，这是苏联的硅谷中心，也是以微电子为主的。

虽然不知道最终会不会成功，但一旦成功，将会改变整个世界的芯片行业。