ASML CFO ：继续供货中国！ASML是欧洲公司，DUV光刻机不受美国影响！
EETOP编译自tomshardware
ASML 周三公布了创纪录的收入和利润，尽管个人电脑和智能手机销售放缓，但对芯片生产设备的需求创下纪录。随着芯片制造商继续投资于晶圆厂设备 (WFE)，该公司的产品积压 - 包括深紫外 (DUV) 光刻光刻机和极紫外 (EUV) 光刻工具 - 现在已超过 380 亿美元。ASML 继续向中国客户销售其 DUV 工具。此外，所有当前的 EUV 客户都致力于使用高 NA EUV 工具。?
由于芯片制造商继续投资晶圆厂设备(WFE)，该公司积压的产品——包括深紫外(DUV)光刻光刻机和极紫外(EUV)光刻工具——现在超过380亿美元。同时ASML表示不受美国制裁影响，继续向中国客户销售其DUV工具。此外，目前所有EUV客户都承诺使用High-Na级EUV工具。
创纪录的需求
ASML第三季度销售额为58亿欧元，销售了80台新的光刻系统和6台二手光刻机，包括12台EUV设备(与第二季度一致)和74台DUV机器(少于第二季度的79台)。
该公司本季度利润达到?29.94?亿欧元，毛利率达到?51.8%。台积电的一些客户更喜欢所谓的快速发货——这种发货过程省略了在?ASML?工厂的一些测试，并将最终测试和正式验收带到客户现场——因此该公司?2022?年第三季度的部分销售额将在下一季度得到确认。??
尽管对 PC、智能手机和消费电子芯片的需求越来越弱，但芯片制造商预计其产品的销售额将在 2024 年至 2025 年开始增长，届时他们将需要安装工具的新产能。目前，英特尔、美光、三星和 SK 海力士等领先公司正在建设多个晶圆厂，这些晶圆厂将在未来几年需要设备。对于 ASML 而言，这意味着第三季度约 89 亿欧元的创纪录预订量，其中 38 亿欧元是 EUV 光刻工具，包括具有 0.33 数值孔径的工具以及具有 0.55 数值孔径的高 NA 系统。
截至今天，ASML?的积压订单超过?380?亿美元（高于第二季度的?330?亿美元），其中包括?600?多台?DUV?光刻机和?100?多台?EUV光刻机。??
ASML 首席财务官罗杰·达森( Roger Dassen)表示：“85% 的订单确实是用于 EUV 和浸入式的，因此真正迎合了半导体制造中更先进和更具战略性的部分。”?“他们确实也在建设 2023 年之后的产能。还有我们一直在谈论的技术主权的因素。事实上，各国政府希望在其半导体制造方面更加自给自足。因此，这些长期趋势仍然非常完整，我认为这创造了一个我们所看到的情况，即大部分客户确实仍然在推动我们尽早获得工具，而不是晚些时候。"
该公司需要数年时间才能交付这些工具，因为其 2023 年的目标产能是超过 375 台 DUV 机器和超过 60 台 EUV 机器。?
“ASML 预计第四季度净销售额在 61 亿欧元至 66 亿欧元之间，毛利率约为 49%，”ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示。“我们预计全年收入为 211 亿欧元，毛利率接近 50%。”
ASML 继续向中国发货
与美国的 WFE 供应商不同，由于美国对中国半导体行业实施制裁，禁止美国芯片生产技术在没有美国商务部特别出口许可证的情况下运往中国，ASML 并未降低其第四季度的预期。?
ASML的首席财务官罗杰·达森说，ASML总部位于荷兰，在其DUV工具中并未使用很多在美国设计或生产的零部件，因此即使不是全部，它也可以将大部分DUV工具运往中芯国际、华宏和长江存储等中国大陆公司。
"我们仍在评估美国对中国芯片行业的限制，"Dassen说。"我们是一家欧洲公司，我们的设备中使用的美国技术有限，我们的初步认识是，这对我们的直接影响是相当有限的。我们可以继续将非EUV光刻工具从欧洲运往中国。"
不过ASML 目前依然无法将 EUV 光刻机运送给其中国客户，现在也无法将它们运送到中国，因为他们使用的是在美国设计和生产的 Cymer 光源。
所有EUV客户都会迁移到High NA EUV
本季度ASML的更多好消息是其第一台商用High NA光刻机Twinscan EXE:5200的额外订单。其中至少有一个订单来自其目前的EUV客户，该客户之前没有订购这种工具，这意味着所有使用（或计划使用）数值孔径为0.33的极紫外光刻技术的公司最终将迁移到下一代0.55NA的EUV光刻技术。
此前该公司表示，三个 Logic 和两个 Memory 客户订购了其 High-NA 光刻机，虽然 ASML 没有透露其 0.55 NA EUV 客户的名称，但我们可以推断这意味着 Intel、三星代工厂和TSMC?(Logic)为以及三星和 SK 海力士（内存）。出于显而易见的原因，ASML 没有透露其最新的 High-NA EUV 客户的名称，但可以合理地假设美光在第三季度订购了其第一台 High-NA 光刻机。?
目前，美光正在美国——犹他州和纽约——建设两个领先的内存工厂，这些工厂将在 2025 年至 2026 年的时间范围内开始提高 DRAM 产量。最初，两家晶圆厂都将使用 Twinscan EXE 0.33 EUV 工具，但最终美光将需要更先进的工具，这就是它需要 0.55 EUV 光刻机的原因。显然，该公司已经开始为下一代做准备。?
美光尚未对其 High-NA EUV 承诺发表评论，但我们有理由相信该公司正在期待 ASML 的下一代 High-NA EUV 生产工具。
总结
尽管最近几个月针对个人电脑、智能手机和消费电子产品的逻辑和存储芯片的需求下降，并且在未来两个甚至三个季度不太可能反弹，但芯片制造商继续投资于他们的工厂--从而将他们的资金带到ASML。对WFE的需求如此之高，以至于ASML的先进设备积压在第三季度增加到380亿美元，或在一个季度内增加50亿美元。
虽然美国公司现在需要美国 DoC 的特殊出口许可证才能将其晶圆厂设备出售给中国的客户，但 ASML 认为它可以不受任何限制地将其 DUV 光刻机出口到中国。虽然美国对中国半导体行业的制裁是否会间接打击 ASML 还有待观察，但对该公司工具的需求如此强劲，以至于中国客户可能至少在几年内都不会完全流失。?
