中国首条光子芯片生产线明年建成：无需EUV光刻机

据《北京日报》报道，国内首条“多材料、跨尺寸”的光子芯片生产线已在筹备，预计将于2023年在京建成，可满足通信、数据中心、激光雷达、微波光子、医疗检测等领域需求，有望填补我国在光子芯片晶圆代工领域的空白。

无需EUV光刻机生产的光子芯片

据悉，光子芯片是光电子器件的核心组成部分，与集成电路芯片相比存在多处不同。例如：从性能而言，光子芯片的计算速度较电子芯片快约1000倍，且功耗更低。从材料而言，InP、GaAS等二代化合物半导体是光子芯片更为常用的材料，而集成电路一般采用硅片。

从制备而言，光子芯片的制备流程与集成电路芯片存在一定相似性，但侧重点在于外延设计与制备环节，而非光刻环节。民生证券指出，这也决定了光子芯片行业中，IDM模式是主流，有别于标准化程度高、行业分工明确的集成电路芯片。

值得一提的是，相较于电子芯片，光子芯片对结构的要求较低，一般是百纳米级，因此降低了对先进工艺的依赖。光子芯片使用我国已相对成熟的原材料及设备就能生产，而不像电子芯片一样，必须使用EUV等极高端光刻机。

光子芯片市场规模有望达到561亿美元

据Gartner预测，到2025年全球光子芯片市场规模有望达561亿美元。

目前来看，全球市场中，高意集团（II-VI）、Lumentum等占据领先地位，长光华芯、源杰科技等本土企业已在高功率激光芯片、高速率激光芯片等领域取得进展。

另外，9月中旬也有消息传出，台积电已与英伟达合作硅光子集成研发项目，前者将在图形硬件上使用COUPE硅光子芯片异构集成技术。

华泰证券指出，未来我国光子芯片厂商成长路径有望经历两个阶段：

第一，在细分领域凭借自身技术实力，绑定优质客户，推进本土化进程；

第二，产品品类横向扩张，打开远期成长天花板。

由于光子芯片行业细分品类较多，中短期内，分析师看好在细分领域中具备深厚技术积累，且已绑定优质客户的国产厂商，有望占据先发优势；长期则看好具备较强横向扩张能力的光芯片企业。

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