三代半导体材料什么区别
半导体是指导体和绝缘体之间的导电材料。半导体应用于集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明应用、大功率电源转换等领域。例如，二极管是一种由半导体制成的设备。从科学、技术和经济发展的角度来看，半导体的重要性非常重要。如今，大多数电子产品，如电脑、手机或数字录音机，都与半导体密切相关。常见的半导体材料包括硅、锗、砷化镓等，硅是商业应用中最具影响力的半导体材料之一。
有各种形式的物质、固体、液体、气体、等离子体等。我们通常称煤、人工晶体、琥珀、陶瓷和其他导电性较差的材料为绝缘体。金、银、铜、铁、锡、铝和其他导电性金属被称为导体。介于导体和绝缘体之间的材料可以简单地称为半导体。与导体和绝缘体相比，半导体材料的发现是最新的，直到20世纪30年代，半导体的存在才得到学术界的认可。
半导体是指导体和绝缘体之间的导电材料。半导体BQ2018SN-E1是一种从绝缘体到导体的导电材料。从科学、技术和经济发展的角度来看，半导体直到20世纪30年代才影响到人们的日常工作和生活。
半导体发展史
英国科学家电子学之父法拉第最先发现硫化银的电阻随着温度的变化情况不同于一般金属，一般情况下，金属的电阻随温度升高而增加，但法拉第发现硫化银材料的电阻是随着温度的上升而降低。这是半导体现象的首次发现。
1839
法国贝克莱尔发现，半导体和电解质之间的接触形成的结在光线下产生电压，这是后来发现的半导体的第二个特征。
1873
英国史密斯发现的特点是英国史密斯发现硒晶体材料在光照下的光电导增加。
1874
德国布劳恩观察到，某些硫化物的电导率与增加电场的方向有关，即其导电性是方向性的，并在其两端增加正电压。它是导电的；如果电压极性反转，则不会导电，这是半导体的整流效应和半导体的第四个独特特性。同年，舒斯特发现了铜和氧化铜的整流效应。
虽然这四个半导体特征是在1880年之前发现的，但半导体术语直到1911年才被发现。直到1947年12月，贝尔实验室才完成了这四个半导体特征。
三代半导体的区别
第一代半导体材料
兴起时间：二十世纪五十年代；
代表材料：硅（Si），锗元素（Ge）半导体材料。
历史意义：第一代半导体材料导致集成电路（IC）核心微电子领域发展迅速。
由于硅材料的带隙较窄，电子迁移率和击穿场较低，Si光电子和高频高功率器件的应用受到许多限制。然而，第一代半导体具有较高的技术成熟度和成本优势，仍然广泛应用于电子信息、新能源和硅光伏产业。
第二代半导体材料
自20世纪90年代以来，随着移动通信的快速发展，基于光纤通信的信息高速公路和互联网的兴起，以砷化镓和磷化铟为代表的第二代半导体材料开始出现。
代表性材料:第二代半导体材料为化合物半导体；例如，砷化镓（GaAs），锑化铟（InSb）；GaAsAl，GaAsP；还有一些固溶体半导体，比如Ge-Si，GaAs-GaP；玻璃半导体(也称非晶态半导体)，如玻璃氧化物半导体；
性能特点:以砷化镓为例。与第一代半导体相比，砷化镓具有高频、抗辐射、耐高温的特点。因此，广泛应用于商业无线通信、光通信和国防军事工业的主流应用
历史意义：第二代半导体材料主要用于制造高速、高频、大功率、发光电子设备，是制造高性能微波、毫米波设备和发光设备的优良材料。它还广泛应用于卫星通信、移动通信、光通信和互联网GPS导航和其他领域。例如，与第一代半导体相比，砷化镓（GaAs）可用于光电领域，尤其是红外激光器和高亮度红光二极管。
自21世纪以来，智能手机、新能源汽车和机器人新兴电子技术发展迅速。同时，全球能源和环境危机突出，能源利用往往功耗低，管理精细。由于其自身的性能限制，传统的第一代和第二代半导体材料无法满足科学技术的需要，这需要新材料的出现。
第三代半导体材料
起源时间:早在1993年，美国就开发出了第一种氮化镓材料和器件，中国最早的研究团队——中国科学院半导体研究所也在2000年开始了这项研究HEMT结构材料。
代表性材料:碳化硅主要用于第三代半导体材料（SiC），氮化镓（GaN），氧化锌（ZnO），氮化铝金刚石（AlN）宽带代表（Eg》2.3eV）半导体材料。
发展现状：在5G在通信、新能源汽车、光伏逆变器等应用需求的明确引导下，应用领域的龙头企业开始使用第三代半导体技术，进一步提升了行业信心，加强了对第三代半导体技术路线的投资。
性能分析:第三代半导体材料的禁带宽度比第一代和第二代半导体材料宽(>2.2eV)，更高的击穿电场、更高的导热性、更高的电子饱和度和更高的抗辐射性，更适合制造高温、高频、大功率、抗辐射装置，可广泛应用于高压、高频、高温、高可靠性等领域，包括射频通信、雷达、卫星、电源管理、汽车电子、工业电力电子等。
第三代半导体，SiC与GaN前者相对比较GaN发展较早，技术成熟度较高；两者之间有一个很大的区别就是热导率，这使得在高功率的应用中，SiC占据主导地位；同时，因为GaN电子迁移率较高，可以比较SiC或Si在高频应用领域，开关速度较高，GaN具备优势。
第一，第二代半导体技术的长期共存：当前阶段是第一、第二、第三代半导体材料被广泛使用的阶段。第二代的出现并没有取代第一代，因为它们在应用领域都有一定的局限性。因此，在半导体的应用中，经常使用兼容的手段来兼容两者，并利用各自的优势来生产产品，以满足更高的要求。第三代预计将完全取代：第三代宽带半导体材料，可广泛应用于各个领域、消费电子、照明、新能源汽车、导弹、卫星等，具有许多优良的性能可以突破第一，第二代半导体材料开发瓶颈，同时受到市场青睐，随着技术的发展，预计将取代第一、第二代半导体材料。
由于本世纪初第三代半导体材料和应用行业的发明和实际应用，不同国家的研究和水平不远，国内行业和专家认为，第三代半导体材料已成为我们摆脱集成电路（芯片）被动情况，实现芯片技术追赶和超越的好机会。回顾半导体发展的辉煌历史，也在一定程度上代表了人类文明的历史。如果机械的发展解放了人类的劳动力，那么半导体的发展就解放了人类的计算能力。此外，随着科学技术的发展，半导体的发展势头永远不会停止。对我们每个人来说，未来的半导体和未来的世界都值得期待。
