ULVAC-PHI 推出能大幅加速电池与先进材料之研发应用的最新XPS设备
ULVAC-PHI 股份有限公司（神奈川县茅崎市、社长 原 泰博）推出一款追求高自动化及精简操作的「PHI GENESIS」全新多功能扫描式 X 射线光电子能谱分析仪（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。
本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/202207/435925.htm |
| 扫描式 X 射线光电子能谱分析仪「PHI GENESIS」外观 |
【背景】
带动全球产业链的全固态电池、先进半导体和光触媒等先端应用领域，都大量使用不同的複合材料，在材料的研究开发中，不仅对材料的性能以及优化材料界面粘附性质有要求，同时也需要与时间赛跑。为了满足日新月异且复杂的表面与界面分析需求，从而加快材料的研究和开发，我们推出了全新的 XPS 表面分析仪，不仅具有极强的基本性能、高度的自动化，并能够满足客户的各种个性化要求。这就是 ULVAC-PHI 推出的全新扫描式 X 射线光电子能谱分析仪— PHI GENESIS。
【概述】
「PHI GENESIS」XPS 将大幅进化的基本性能置于高度空间利用的外壳中，它保有50 年传统的 PHI XPS 系列的“核心基因”并提高了自动化，成为了大幅缩短分析时间，且具有可扩展性的最新科研仪器。
「PHI GENESIS」XPS 通过自动样品交换以及多点分析功能，结合提高计数率的高灵敏度分析仪，提供快速、高灵敏度和微区的 XPS 分析。迄今为止，ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 已将许多全球首创的 XPS 分析技术投入实际应用中（扫描微聚焦型 X 射线、全自动化 XPS 分析、自动中和绝缘体分析、用团簇离子蚀刻枪对有机材料进行深度分析，以及通过硬 X 射线对无机材料进行无破坏性的深度分析）。在整合这些技术到仪器中，便可以为金属、半导体、陶瓷和有机物质等所有材料提供尖端的 XPS 分析技术。
PHI GENESIS 的另一项创新是对易用性的追求，新软件旨在提供各个层次的用户都可快速上手使用，无论是表面分析的初学者还是尖端科学家，是在制造现场还是在尖端开发的研究机关，都能够符合使用者的习惯和需求。ULVAC-PHI亦提供了一个实验室级的硬 X 射线选项，使得在实验室环境中同样可以使用如同大型同步辐射光源才能进行的高阶分析。
PHI GENESIS 不仅支持最先进的复合材料分析，同时也能对复合器件的产品进行分析，目标成为加速全球研究与开发必不可少的分析仪器。
【上市时间】
2023 年 4 月
