国产芯片制造再获突破，自主芯片制造产业链一步步完善

　　国人对于芯片制造可能更多是光刻机这种设备，然而芯片制造是一条相当长的产业链，业界人士指出芯片制造产业链包括了八大设备和八大材料，值得高兴的是国产芯片制造产业链共同努力下已一步步实现国产化。

　　在芯片设备方面进展较为迅速，此前业界人士指出国产芯片设备在清洗机、涂胶显影机、离子注入机等设备方面都已达到14nm级别，目前正在研发7nm、5nm的设备，与世界先进水平的差距也比较小了，并且正处于加速追赶中，与全球先进水平的差距在快速缩短。

　　其中国产芯片制造设备当中，刻蚀机是进展最快的，国产刻蚀机已做到5nm，这也是国产设备中最先进的部分，刻蚀机已获得台积电的认可并被它采用，遗憾的是由于种种原因，技术最先进的国产刻蚀机目前只有台积电采用，三星、Intel等考虑种种因素不愿采用中国产的设备，因此国产刻蚀机在全球市场占有的份额还比较低。

　　让人遗憾的恰恰是广受关注的光刻机拖了后腿，据称国产光刻机最先进的也只能达到28nm工艺，这已成为中国芯片制造产业链最薄弱的环节，原因在于光刻机是诸多设备当中最复杂的，毕竟ASML的光刻机也是集中欧美日等国先进元件的精华。不过国产光刻机企业上海微电子连续斩获订单，正为它带来源源不断的收入，可望帮助它加速技术研发，在光刻机技术方面加速追赶ASML。

　　芯片制造材料可能被国人所忽视，然而材料其实对于芯片制造非常重要，此前三星就因为被日本卡主了光刻胶等材料一度陷入停产恐慌，为此韩国集中全国科研技术研发光刻胶等材料，迅速解决问题，摆脱了日本的制约。

　　韩国用两三年时间研发出自己的芯片制造材料，说明芯片制造材料也不是美国和日本制约其他国家发展芯片制造的重要障碍，只要集中力量可以很快突破。

　　多氟多迅速量产高纯电子化学品材料，说明中国在材料研发方面确实也有厚实的基础，正因为我们所拥有的扎实基础，得以迅速研发相关的芯片制造材料，可以预期其他与芯片制造的材料也将陆续解决。

　　中国对芯片制造的重视主要还是近几年，而这几年时间确实也在芯片制造产业链方面加速完善，可以预期只要再花几年时间，国产芯片制造产业链解决了光刻机这个瓶颈之后，国产芯片制造完全自主化就将实现，到那时候谁也无法阻止中国芯片制造的发展。

　　目前中国已成为全球第三大芯片制造产能大国，芯片制造工艺也已推进至14nm，7nm工艺在中芯国际的推动下也在加速量产，业界人士指出一旦中芯国际的7nm工艺量产，那么国内对芯片的需求将有九成得以满足。

　　芯片制造产业链的成型，代表着国产芯片的最后一个环节即将攻克，这是中国制造的巨大成功，体现了只要坚持艰苦奋斗，谁也挡不住中国制造前进的脚步，自主创新将成为现实。