台积电N3E 3nm工艺缩水！也有个好消息

　　5nm工艺之后，台积电正在全力冲刺3nm，并且准备了多个版本，至少包括N3、N3E、N3B。

　　N3是常规标准版本，N3E原本应该是性能增强版(Enhanced)，2024年量产，现在却变成了精简版，规格上缩水，好消息是进度提前了。

　　据悉，N3E工艺将使用更少的EUV光刻层，从25层缩减到21层，投产难度更低，良率也能更高，成本自然得以下降，但是晶体管密度会比N3版本低大约8％，相比N5仍然会高60％。

　　相比之下，N3的晶体管密度比N5要高70%。

　　N3E工艺将在本月底完成设计，而投产时间将从2023年第三季度提前到2023年第二季度。

　　N3工艺也安排在2023年，但暂时不清楚具体哪个季度。

　　至于N3B版本，目前只知道它是在N3的基础上，针对特定用户的改进，但其他一无所知。

特别提醒：本网信息来自于互联网，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实，对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺，并请自行核实相关内容。本站不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如若本网有任何内容侵犯您的权益，请及时联系我们，本站将会在24小时内处理完毕。